(1)結合自己的工藝特點,自主設計精密涂布機,涂布厚度可以做到1μm以下,涂布均勻性控制在5%以內,基本達到日本的技術水平。精密涂布機將納米銀涂布于柔性基板上,烘烤后形成納米級厚的納米銀薄膜,納米銀線之間互相搭接,形成導電路徑,而空隙處可見光完全透過,形成高透明導電膜。銀具有最佳的導電率,以及柔韌性,所以涂布成的透明導電薄膜具有很低的方阻和耐彎折性,同時兼有極高的透過率。
(2)特殊的納米銀導電膜涂布液以及導電結構,可以完全代替ITOfilm,并兼容ITOfilm應用于觸控屏的所有工藝,而日本的導電膜只適合激光蝕刻工藝。
(3)納米銀導電膜技術實現了低方阻,高透過率,方阻小于100Ω/□,透過率大于90%,而現有ITO薄膜一般做到150Ω/□,透過率88%左右;實現了柔性,彎折100000次,方阻變化率在10%以內,而現有ITO薄膜一般彎折幾十次,導電膜就會斷裂。
(4)相比于磁控濺鍍發制作ITO透明導電膜,納米銀透明導電膜采用卷對卷涂布工藝,設備成本低,是磁控濺鍍設備的三分之一,易大規模生產,效率較前者提高30%。
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